浅析硅片抛光机的两种抛光方式硅片抛光机如何解决这个矛盾的的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到。硅片抛光机不是碾除整体的糠层，是通过碾除细微的糠粉和粗糙表上面突起的淀粉细粒，抛光机抛光和碾白从工作方面比较存在着很大的差别，抛光机抛光压力很低，抛光机抛光米粒的时候流体密度很小，抛光时米粒离开铁辊的速度很快，而且抛光机单位产量抛光运动面积很大。
浅谈双面研磨机采用不同的研磨方式对平行度的影响
浅谈双面研磨机采用不同的研磨方式对平行度的影响在双面研磨机上有两种不同的研磨方式：种：离散研磨，第二种：固结研磨。这两种不同的研磨方式是市场上运用广的，固结研磨多用于单平面研磨，而离散研磨多用于双平面研磨中。由于原理不同，两种方式所呈现出来的优劣势各不相同，对工件表面精度的影响也存在差异。离散型研磨，上下两个研磨盘先进行相互研磨，然后对工件进行研磨，三者分别有不同的研磨轨迹，工件研磨终是三种运动轨迹的结合。运动轨迹比较复杂，不会发生重合，所以随着时间的增加，工件的两个表平面平行度逐步提升，终能达到非常高的平行度。相对而言，在固结研磨中，研磨机上的磨盘和磨片表面虽然能修整到较高的平行度，但是由于工件是粘贴在磨盘上的，粘贴剂有一定的厚度和误差，这将一定程度影响工件的平行度。而且，固结研磨的研磨轨迹是磨盘和工件两种运动轨迹的结合，工件外侧的线速度大于内侧线速度，外侧研磨量比内侧研磨量要大，随着时间的增加，很容易导致工件内凸外陷，所以工件的平行度误差相对也较大。
研磨维修中常用磨料的知识介绍就研磨机而言，其种类有很多，比较常用的有研磨动力头、单圆盘研磨机、双圆盘研磨机、方板的平面研磨机、量面研磨机、球面研磨机、球磨机、滚针研磨机、玻璃研磨机、中心孔研磨机、无心式研磨机、齿轮研磨机以及振动抛光机等。在研磨维修中常用磨料有哪些以及要注意哪些事项？各种磨料具有不同的特性，机械密封件研磨研磨密封环常用磨料的有：①机械密封件研磨之氧化铝系列氧化铝系列磨料有白色的结晶的纯氧化铝（AI203）俗称百刚玉，（Cr203）称为铬刚玉，常用的是百刚玉，初研时采用百刚玉和碳化硼，粒度在W14-W40，半精研用W14－W7,精研用W5-W1②机械密封件研磨之炭化物系主要有纯炭化硅（Sic）为绿色，当有微量元素时为黑色，还有炭化硼（BC）为黑色硬度超过炭化硅而低于金刚石。还有金刚石系。正确选择磨料非常重要，根据修磨的工件的硬度来选择磨料。机械密封件研磨之磨料的硬度决定加工密封环的速度和表面粗糙度。常用的是，百刚玉和碳化硼。初研时采用粒度在W14-W40，半精研用W14－W7,精研用W5-W1。